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流量控制器MFC2000在单晶炉设备的半导体行业中应用
单晶硅炉，也称全自动直拉单晶生长炉，是一种在惰性气体（氮气、氦气为主）环境中，用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生长无错位单晶的设备，将多晶硅原料放在... 继续阅读 »
流量控制器在半导体加工工艺化学气相沉积（CVD）的应用
薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料，比如绝缘化合物二氧化硅，半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。薄膜... 继续阅读 »
