半导体生产过程中的某些工艺涉及气体与半导体基片的反应，比如沉积工艺和刻蚀工艺，气体的流量将对工艺结果产生重要影响。为了使生产的半导体获得较高的良品率，必须对流入反应腔室的气体流量进行精确控制，尤其是随着半导体工艺集成度的不断提高，对气体流量的误差要求也进一步提高。
因而随着真空、半导体等领域对微小气体流量控制的需求，热式质量流量传感器因其高精度的特点被广泛采用。相比体积流量测量方式，热式质量流量传感器不依赖介质密度变化，避免了环境温度变化带来的测量偏差。热式质量流量传感器主要由毛细管、热源、温度传感器三部分组成，气体经过上游热源并带走热量，使下游热源初始温度变化，通过温度传感器获取上下游热源温差，此温差与流体质量流量成线性关系。工采网推荐使用瑞士IST 热式质量流量传感器 - MFS02。
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瑞士IST 热式质量流量传感器MFS02 参数：
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