在半导体器件的制造过程中,各种真空处理室通常用于执行特定的处理,例如薄膜沉积、蚀刻、氧化或氮化、热处理等。在真空环境中待处理的半导体衬底上。另一方面,将半导体衬... 继续阅读 »
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