镀膜用于学术性的语言称之为薄膜沉积（Thin film depositon）是一种常用的表面处理工艺。被广泛应用于机械加工、半导体、装饰材料等领域。下面工采网通过本文向大家介绍一下半导体镀膜工艺中的流量监测。
镀膜是利用化工产品上光性或者树脂型化工产品在物体表面形成一层薄膜状态物质、也就是保护层！镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD：物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材（金靶，铜靶，Al，Cr.....），金属原子脱离靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化学气相沉积。这个是通过化学反应，在晶圆表面张氧化薄膜。两种工艺显示如下：将镀膜原料（气体或蒸汽）经过适当的过程（如分解、化合）使其沉积于基材表面的方法被称为化学气相沉积（CVD），而将镀膜材料直接冷凝至基材表面成膜则称为物理气相沉积（PVD），其中PVD根据其不同的方法又可细分为蒸发、离子沉积、离子溅射、磁控溅射、分子束外延等。
另一方面PVD镀膜加工的原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，使靶材蒸发成为反应产物沉积在工件上的，物理工艺,绿色健康，质最稳定。因而在真空镀膜机中经常使用到的热式气体质量流量控制器主要是用来控制气体的进气量，把气体流量准确的输入到真空腔室内。气体质量流量控制器主要是用于控制微小流量的气体，采用全新的制作工艺，是在20℃，1个大气压条件下标定的，主要是指气体在1分钟的体积流量单位。为监测热式气体质量流量控制器流量变化情况工采网推荐使用液体流量传感器 液体计量用 - PLF2000系列。
PLF2000系列液体流量传感器，以代替机械涡轮流量传感器。以MEMS热流量芯片为核心，PLF2000拥有更高的精度和重复性，即使在流量脉动的情况下也能提供线性数字输出。由于没有活动部件，PLF2000不会卡住，也不会发生机械故障。清洁时无需拆卸。此外，由于其流道中不会引入障碍物（即涡轮），因此具有zui小的流阻，使液体能够通过重力、锅炉或低功率泵来循环。
得益于精密加工的创新，PLF2000采用第三代热流量芯片。传感器芯片采用 一对热电堆来检测由质量流量引起的温度梯度变化，提供了极好的信噪比和重复性。“固态”隔热结构消除了在竞争技术中使用表面空腔或易碎膜的需要。传感器芯片，加上其碳化硅保护膜，能够直接接触液体，允许zui高水平的灵敏度和zui低成本的包装。
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